- 「放電研究」 第113号 (昭和62年2月)
目 次
ポストU H V送電における高電圧電力技術の基盤に関する研究
第1葺 総括 ・・・1
- 1.1 研究の日的・・・1
- 1.2 研究の概要・・・1
- 1.3 主なる成果と今後の課題・・・・2
第2章 研究和告 ・・・4
2.1 超超高圧架空送電の研究・・・4
2.2 しゃへい導体大気送電の研究・・・7
2.3 各種プローブによる両極性直流イオン流場の電荷密度測定・・・12
2.4 じんあいを含む汚損がいし面放電に対するモデル実験・・・20
2.5 洞道ガス絶縁送電の基礎的検討・・・30
2.6 洞道ガス絶縁送電におけるスぺーサの耐電圧特性・・・42
2.7 SF6ガス中治面ストリーマおよびリーグの進展特性・・・51
2.8 SF6ガス中ギャップの破壊遅・・・62
2.9 高分子絶縁SFらガス充填ケーブルに関する研究・・・・67
2.10 極低温超電導ケーブルの開発研究 ・・・77
2.11 機器の高電圧設計と試験法の見直しについて・・・87
2.12 放電化学作用からみた有機絶縁材料の部分放電劣化・・・89
2.13 ZnO-Bi2O3薄膜複合系によるZnOパリスタの動作・劣化機構の検討・・・99
2.14 ぺーパーミスト絶縁の実用の可能性・・・105
2.15 極限高電圧(50MV)測定の問題点・・・107
2.16 線路の耐雷設計の見直し・・・111
「放電研究における人工知能への期待」研究会和告・・・115
Copyright © 2010 放電学会 All Rights Reserved.