「放電研究」 第113号 (昭和62年2月)

目     次

ポストU H V送電における高電圧電力技術の基盤に関する研究

第1葺 総括 ・・・1

1.1 研究の日的・・・1
1.2 研究の概要・・・1
1.3 主なる成果と今後の課題・・・・2
第2章 研究和告 ・・・4
 2.1 超超高圧架空送電の研究・・・4
 2.2 しゃへい導体大気送電の研究・・・7
 2.3 各種プローブによる両極性直流イオン流場の電荷密度測定・・・12
 2.4 じんあいを含む汚損がいし面放電に対するモデル実験・・・20
 2.5 洞道ガス絶縁送電の基礎的検討・・・30
 2.6 洞道ガス絶縁送電におけるスぺーサの耐電圧特性・・・42
 2.7 SF6ガス中治面ストリーマおよびリーグの進展特性・・・51
 2.8 SF6ガス中ギャップの破壊遅・・・62
 2.9 高分子絶縁SFらガス充填ケーブルに関する研究・・・・67
 2.10 極低温超電導ケーブルの開発研究 ・・・77
 2.11 機器の高電圧設計と試験法の見直しについて・・・87
 2.12 放電化学作用からみた有機絶縁材料の部分放電劣化・・・89
 2.13 ZnO-Bi2O3薄膜複合系によるZnOパリスタの動作・劣化機構の検討・・・99
 2.14 ぺーパーミスト絶縁の実用の可能性・・・105
 2.15 極限高電圧(50MV)測定の問題点・・・107
 2.16 線路の耐雷設計の見直し・・・111
「放電研究における人工知能への期待」研究会和告・・・115
Copyright © 2010 放電学会 All Rights Reserved.