「放電研究」 第１２０号 (昭和６３年６月)

目　　　　　次 特集：　新素材と放電

1．最近の超伝導薄膜の技術的動向：三浦忠男・・・1　

2．ダイヤモンド薄膜の生成：加茂睦和・・・11

3．IVD法によるB・N薄膜の合成：緒方　潔,安東靖典,酒井滋樹,西山哲,村松智,上條栄治・・・20

4．ガス中蒸気法による超微粒子の作製と応用：小田正明・・・30

5．ポリマーの表面処理：森田慎三,山田人己,服部秀三・・・41

6．プラズマC V D法によるアモルファス半導体薄膜の形成：伊藤直樹,市川幸美,青田　隆,酒井　博・・・51

グループ・ニュース・・・61

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